sábado, 31 de julio de 2010

El primer día en el College of Nanoscale Science and Engineering estuve muy emocianada, ya que nos dieron
un tour por todo el collge, nos mostraron los cleanrooms y los laboratorios, es impresionante la cantidad de tecnología
que tienen aquí. Después tuve la oportunidad de conocer a mi mentor, Dr. Robert Brainard y a su estudiante graduado, Seth Kruger, los dos son unas personas increibles!


He aprendido muchisimas cosas, desde el primer día que nos dieron el entrenamiento de seguridad en el laboratorio, hasta preparar polímeros y amplificadores ácidos, el cual es el nombre de mi proyecto.

Actualmente las fotoresistencias contienen: PAG (Photo Acid Generator), polímero, base y en este caso, amplificadores ácidos para interactuar con luz EUV (Extreme Ultra Violet)
Las metas de este proyecto son: darle mayor sensibilidad a la resistencia, disminuir LER (line edge roughness) y aumentar la resolución.
Esto con el fin de lograr el desarrollo de chips de computadora mas pequeños.

El proceso de la litografía EUV consiste en:
1.cubrir el wafer con la resistencia
2.exponer a la luz y el PAG ayuda a generar el ácido
3.el amplificador acido reacciona para generar más ácido de forma autocatalitica
4.desarrollo en solucion basica

En lo que estuve trabajando este verano, fue principalmente en unir el amplificador acido a el polimero, de manera que la
difusion del acido este mas controlada y lograr los objetivos antes mencionados, algunas de estas resistencias fueron mandadas a california
para ser probadas, aun estamos en espera de resultados.

El martes tendré mi presentación ante mi grupo de laboratorio y el 11 de agosto será la presentación del poster! deseenme suerte =)