Un poquito sobre Modeling Resist Performance

Ya estamos iniciando la quinta semana aqui en el CNSE, y ya es tiempo de contar con cierta discrecion, acerca de mi proyecto que viendo haciendo.

Todos saben que los fotoresinas son muy importantes en la litografia, esta una tecnica muy importante para el diseno de los transistores, y en general para el diseno de circuitos.

Ahora bien, sabemos que al final queda un patron dibujado por el resist. Asi, el conocimiento de las dimensiones de estos patrones es muy importante para las companias que hacen circuitos. El area que se encarga de medir estas cosas se llama Metrologia. Y a decir verdad, en este proyecto estan trabajando personas de la UAlbany asi como de una empresa de metrologia.

Pero, pero, pero, pero... hay un problema cuando quieres medir estos patrones (de ahi que nazca un proyecto). Bueno, basicamente para medir estas pequenisimas cosas se utiliza el SEM o el AFM (Atomic Force Microscope). El AFM es muy habil para las mediciones, pero lo malo es que a las companias no les agrada que sean LENTAS, por ello prefieren utilizar el SEM, que es mas rapido. ( Comprenderan que en el ambito de los business la rapidez es muy importante). Donde esta el problema?

El problema esta que cuando el SEM escanea la muestra, los electrones traviesos reaccionan con la fotoresina. (Hablando quimicamente, se dice que rompe ciertos grupos del polimero). De modo que al escanear una primera vez, el resist se encoge (se dice que hay un SHRINKAGE). Si vuelves a escanear otra vuelta, se encoge mas. Esto conlleva a que las dimensiones de los patrones cambien cada vez que se escanee.

Asi, lo que decidieron todos los involucrados en este proyecto es encontrar formulas, hacer funciones, considerar parametros, mediciones, etc ( mucha matematica aqui y quimica), para poder MODELAR este fenomeno y decir: Cual seran las dimensiones ORIGINALES a lo largo del eje X, si aplico 800 eV del SEM a una muestra de base igual W, de angulo Q, considerando una contaminacion R ... ... En otras palabras, dado ciertas condiciones, saber EL ZERO th SHRINK (o encogimiento en el tiempo cero, lo mismo que decir encontrar las dimensiones originales).

Ahora bien, puesto que una material real tiene tres dimensiones, lo mas probable es que piensen que yo estoy trabajando en como cambia en las 3 dimensiones. Pero no es asi. El proyecto inicialmente se hizo trabajando en primera dimension 1-D. Ahora yo estoy trabajando en 2-D. No se quien trabajara en el 3-D, pero espero que sea uno de la UDLAP para el proximo verano.

Por otra parte, al principio me ensenaron en vivo y en directo como es que el SEM encoge el resist. Lo pude ver por la pantalla del computador, y vi que las dimensiones cambiaban. Entonces, que hago yo? Yo estoy simulando en Matlab este fenomeno en 2-D. Pero antes me hacerlo en 2-D, las personas del proyecto me recomendaron que RE-simulara el fenomeno en 1-D, pues seria de mucha ayuda para iniciar el 2-D. Me pase las 3 primeras semanas hacerlo, y recien la semana pasada comence con la 2-D. ( Estamos a buen tiempo, dont worry ...be happy).

Espero que les haya interesando a pesar que faltan mas detallitos, pero ya ustedes se imaginaran.

Muchas bendiciones a todos.

( Disculpas si no he posteado, pues se que es muy importante compartir estas experiencias. Mas adelante posteare otro ).

Somos mas que Vencedores!!!

Daniel.